Evolution of the microstructure of sputter deposited TaAlON thin films with increasing oxygen partial pressure
- Schalk, N. (Redner)
- Saringer, C. (Beitragende/r)
- Alexander Fian (Beitragende/r)
- Terziyska, V. (Beitragende/r)
- Tkadletz, M. (Beitragende/r)
Aktivität: Gespräch oder Vortrag › Mündliche Präsentation