Ab initio study of oxygen vacancy filament formation at Ta/HfO2 interface

Donglan Zhang, Jiong Wang, Qing Wu, Yong Du, David Holec

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungBegutachtung

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)1-11
FachzeitschriftSurfaces and Interfaces
Jahrgang2024
Ausgabenummer49
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2024

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