Addressing Fracture Properties of Individual Constituents Within a Cu-WTi-SiOx-Si Multilayer

Markus Alfreider; Johannes Zechner; Daniel Kiener

doi:10.1007/s11837-020-04444-6

Addressing Fracture Properties of Individual Constituents Within a Cu-WTi-SiO_x-Si Multilayer

Markus Alfreider
, Johannes Zechner
, Daniel Kiener

Lehrstuhl für Materialphysik (430)

Kompetenzzentrum Automobil- und Industrieelektronik GmbH

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Begutachtung

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Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	4551-4558
Seitenumfang	8
Fachzeitschrift	JOM
Jahrgang	72.2020
Ausgabenummer	12
DOIs	https://doi.org/10.1007/s11837-020-04444-6
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 10 Nov. 2020

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10.1007/s11837-020-04444-6

M. Alfreider, J. Zechner, D. Kiener 2020 (JOM 72, 4551–4558)Endgültige, publizierte Fassung, 1,64 MBLizenz: CC BY

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TY - JOUR

T1 - Addressing Fracture Properties of Individual Constituents Within a Cu-WTi-SiOx-Si Multilayer

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PY - 2020/11/10

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M3 - Article

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