Originalsprache | Englisch |
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Seiten (von - bis) | 698-701 |
Fachzeitschrift | Fresenius' journal of analytical chemistry |
Publikationsstatus | Veröffentlicht - 1995 |
AFM investigation of silicon substrates for chemical vapour deposition of diamond films
Thomas Prohaska, G. M. Fuchs, G FRIEDBACHER, D. Schwarzbach, E. Bouveresse, M GRASSERBAUER
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(Scopus)