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Annealing effects on the film stress and adhesion of tungsten-titanium barrier layers

  • Andreas Kleinbichler
  • , Juraj Todt
  • , Johannes Zechner
  • , Stefan Wöhlert
  • , Daniel Többens
  • , Megan Cordill
  • Kompetenzzentrum Automobil- und Industrieelektronik GmbH
  • Erich-Schmid-Institut für Materialwissenschaft der Österreichischen Akademie der Wissenschaften
  • Helmholtz-Zentrum Berlin
  • Infineon Technologies AG Austria, Villach

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungBegutachtung

4 Zitate (Scopus)
OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)376-381
Seitenumfang6
FachzeitschriftSurface & coatings technology
Jahrgang332.2017
Ausgabenummer25 December
DOIs
PublikationsstatusElektronische Veröffentlichung vor Drucklegung. - 18 Sept. 2017

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