Electronic origin of structure and mechanical properties in Y and Nb alloyed Ti-Al-N thin films

Titel in Übersetzung: Electronic origin of structure and mechanical properties in Y and Nb alloyed Ti-Al-N thin films

David Holec, Richard Rachbauer, M. Lattemann, L. Hultman, Jörg Paulitsch, Paul Heinz Mayrhofer

Publikation: KonferenzbeitragPosterForschungBegutachtung

Titel in ÜbersetzungElectronic origin of structure and mechanical properties in Y and Nb alloyed Ti-Al-N thin films
OriginalspracheEnglisch
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2012
Veranstaltung4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials - Aichi, Japan
Dauer: 4 März 20128 März 2012

Konferenz

Konferenz4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
Land/GebietJapan
OrtAichi
Zeitraum4/03/128/03/12

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