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Enhancement of copper nanoparticle yield in magnetron sputter inert gas condensation by applying substrate bias voltage and its influence on thin film morphology

  • Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology
  • Empa - Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Thun
  • CEST Centre for Electrochemistry and Surface Technology GmbH
  • Technische Universität Wien

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungBegutachtung

OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummer113724
FachzeitschriftVacuum
Jahrgang230
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - Dez. 2024

Bibliographische Notiz

Publisher Copyright:
© 2024 The Authors

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