Abstract
Within the last three decades, thin films grown by physical vapor deposition methods have found widespread applications. This article reports about recent research examples on molybdenum thin films, as used for thin film transistor liquid crystal displays, and on TiN diffusion barrier films, as used for microelectronics.
| Originalsprache | Englisch |
|---|---|
| Seiten (von - bis) | 231-234 |
| Seitenumfang | 4 |
| Fachzeitschrift | Berg- und hüttenmännische Monatshefte : BHM |
| Jahrgang | 2015 |
| Ausgabenummer | Volume 160, Issue 5 |
| DOIs | |
| Publikationsstatus | Veröffentlicht - 2015 |
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