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Microstructure and stress gradients in TiW thin films characterized by 40 nm X-ray diffraction and transmission electron microscopy

  • Fahimeh Saghaeian
  • , Jozef Keckes
  • , Stefan Woehlert
  • , M. Rosenthal
  • , M. Reisinger
  • , J. Todt
  • Infineon Technologies AG Austria, Villach
  • European Synchrotron Radiation Facility
  • Kompetenzzentrum Automobil- und Industrieelektronik GmbH
  • Erich-Schmid-Institut für Materialwissenschaft der Österreichischen Akademie der Wissenschaften

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungBegutachtung

3 Zitate (Scopus)
OriginalspracheEnglisch
Aufsatznummer137576
Seitenumfang7
FachzeitschriftThin solid films
Jahrgang691.2019
Ausgabenummer1 December
DOIs
PublikationsstatusElektronische Veröffentlichung vor Drucklegung. - 14 Okt. 2019

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