Photolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications

Archim Wolfberger; Andreas Petritz; A. Fian; Jakob Herka; V. Schmidt; B. Stadlober; Rupert Kargl; Stefan Spirk; Thomas Grießer

doi:10.1007/s10570-014-0471-4

Photolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications

Titel in Übersetzung: Photolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications

Archim Wolfberger, Andreas Petritz, A. Fian, Jakob Herka, V. Schmidt, B. Stadlober, Rupert Kargl, Stefan Spirk, Thomas Grießer

Lehrstuhl für Chemie der Kunststoffe (231)

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Begutachtung

37 Zitate (Scopus)

Titel in Übersetzung	Photolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications
Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	717-727
Seitenumfang	11
Fachzeitschrift	Cellulose
Jahrgang	Volume 22
Ausgabenummer	Issue 1
DOIs	https://doi.org/10.1007/s10570-014-0471-4
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 16 Okt. 2014

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Dieses zitieren

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TY - JOUR

T1 - Photolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications

AU - Wolfberger, Archim

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AU - Herka, Jakob

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AU - Kargl, Rupert

AU - Spirk, Stefan

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PY - 2014/10/16

Y1 - 2014/10/16

U2 - 10.1007/s10570-014-0471-4

DO - 10.1007/s10570-014-0471-4

M3 - Article

SN - 0969-0239

VL - Volume 22

SP - 717

EP - 727

JO - Cellulose

JF - Cellulose

IS - Issue 1

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