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Photolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications

Titel in Übersetzung: Photolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications
  • Archim Wolfberger
  • , Andreas Petritz
  • , A. Fian
  • , Jakob Herka
  • , V. Schmidt
  • , B. Stadlober
  • , Rupert Kargl
  • , Stefan Spirk
  • , Thomas Grießer

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungBegutachtung

37 Zitate (Scopus)
Titel in ÜbersetzungPhotolithographic patterning of cellulose: a versatile dual-tone photoresist for advanced applications
OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)717-727
Seitenumfang11
FachzeitschriftCellulose
JahrgangVolume 22
AusgabenummerIssue 1
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 16 Okt. 2014

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