Photonic superlattice multilayers for EUV lithography infrastructure

F. Kuchar, R. Meisels

Publikation: Beitrag in Buch/Bericht/KonferenzbandBeitrag in Konferenzband

OriginalspracheEnglisch
Titel34th European Mask and Lithography Conference
Herausgeber (Verlag)SPIE
Band10775
ISBN (Print)9781510621213
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 1 Jan. 2018
Veranstaltung34th European Mask and Lithography Conference, EMLC 2018 - Grenoble, Frankreich
Dauer: 18 Juni 201820 Juni 2018

Konferenz

Konferenz34th European Mask and Lithography Conference, EMLC 2018
Land/GebietFrankreich
OrtGrenoble
Zeitraum18/06/1820/06/18

Dieses zitieren