Room-Temperature Deposition of DLC Films by an Ion Beam Method, Reactive Magnetron Sputtering and Pulsed Laser Deposition: Process Design, Film Structure and Film Properties

Markus Kahn

Room-Temperature Deposition of DLC Films by an Ion Beam Method, Reactive Magnetron Sputtering and Pulsed Laser Deposition: Process Design, Film Structure and Film Properties

Titel in Übersetzung: Raum-Temperatur Abscheidung von DLC-Schichten mit einer Ionenstrahlmethode, reaktivem Magnetronkathodenzerstäuben und gepulster Laser Dampfphasenabscheidung: Prozess-Design, Schichtstruktur und Schichteigenschaften

Markus Kahn

Lehrstuhl für Metallkunde (420)

Publikation: Thesis / Studienabschlussarbeiten und Habilitationsschriften › Dissertation

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Abstract

Ziel der Doktorarbeit war die Prozessentwicklung von Physikalischen Dampfphasenabscheidungverfahren und die Untersuchung der Struktur/Eigenschaften-Zusammenhänge von bei Raumtemperatur (

Titel in Übersetzung	Raum-Temperatur Abscheidung von DLC-Schichten mit einer Ionenstrahlmethode, reaktivem Magnetronkathodenzerstäuben und gepulster Laser Dampfphasenabscheidung: Prozess-Design, Schichtstruktur und Schichteigenschaften
Originalsprache	Englisch
Qualifikation	Dr.mont.
Betreuer/-in / Berater/-in	Teichert, Karl Christian, Beurteiler B (intern) Mitterer, Christian, Beurteiler A (intern)
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 2009

Bibliographische Notiz

nicht gesperrt

Schlagwörter

amorphe Kohlenstoffschichten (a-C)
physikalische Dampfphasenabscheidung (PVD)
Magnetronkathoden-Zerstäuben (Sputtern)
gepulste Laser Dampfphasenabscheidung (PLD)
Raman Spektroskopie

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VolltextEndgültige, publizierte Fassung, 2,91 MB

Dieses zitieren

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TY - BOOK

T1 - Room-Temperature Deposition of DLC Films by an Ion Beam Method, Reactive Magnetron Sputtering and Pulsed Laser Deposition

T2 - Process Design, Film Structure and Film Properties

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M3 - Doctoral Thesis

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