Structure and properties of magnetron sputtered Zr-Si-N films with a high (≥25 at.%) Si content

J. Musil, R. Daniel, P. Zeman, O. Takai

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungBegutachtung

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OriginalspracheEnglisch
FachzeitschriftThin solid films
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2005

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