Structure and properties of sputter deposited crystalline and amorphous Cu-Ti films

H. Turnow, H. Wendrock, S. Menzel, T. Gemming, J. Eckert

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungBegutachtung

7 Zitate (Scopus)
OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)184-188
Seitenumfang5
FachzeitschriftThin solid films
Jahrgang598
DOIs
PublikationsstatusVeröffentlicht - 1 Jan. 2016

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