Thermal emissivity of carbon coated p-doped silicon stencil masks for ion projection lithography

D. Braun; Rados Gajic; Friedemar Kuchar; Regina Korntner; E. Haugeneder; H. Löschner; J. Butschke; F. Letzkus; R. Springer

Thermal emissivity of carbon coated p-doped silicon stencil masks for ion projection lithography

Titel in Übersetzung: Thermal emissivity of carbon coated p-doped silicon stencil masks for ion projection lithography

D. Braun, Rados Gajic, Friedemar Kuchar, Regina Korntner, E. Haugeneder, H. Löschner, J. Butschke, F. Letzkus, R. Springer

Lehrstuhl für Physik (460)

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3 Zitate (Scopus)

Titel in Übersetzung	Thermal emissivity of carbon coated p-doped silicon stencil masks for ion projection lithography
Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	123-126
Fachzeitschrift	Journal of vacuum science & technology / B (JVST)
Jahrgang	21
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 2003

Dieses zitieren

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TY - JOUR

T1 - Thermal emissivity of carbon coated p-doped silicon stencil masks for ion projection lithography

AU - Braun, D.

AU - Gajic, Rados

AU - Kuchar, Friedemar

AU - Korntner, Regina

AU - Haugeneder, E.

AU - Löschner, H.

AU - Butschke, J.

AU - Letzkus, F.

AU - Springer, R.

PY - 2003

Y1 - 2003

M3 - Article

SN - 0734-211X

VL - 21

SP - 123

EP - 126

JO - Journal of vacuum science & technology / B (JVST)

JF - Journal of vacuum science & technology / B (JVST)

ER -