Thermal stability of nanolamellar fcc-Ti1-xAlxN grown by chemical vapor deposition

Michael Tkadletz; Christina Hofer; Christina Wüstefeld; Nina Schalk; Mykhaylo Motylenko; David Rafaja; Helga Holzschuh; Werner Bürgin; Bernhard  Sartory; Christian Mitterer; Christoph Czettl

doi:10.1016/j.actamat.2019.05.044

Thermal stability of nanolamellar fcc-Ti1-xAlxN grown by chemical vapor deposition

Michael Tkadletz, Christina Hofer, Christina Wüstefeld, Nina Schalk, Mykhaylo Motylenko, David Rafaja, Helga Holzschuh, Werner Bürgin, Bernhard Sartory, Christian Mitterer, Christoph Czettl

Lehrstuhl für Funktionale Werkstoffe und Werkstoffsysteme (425)

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Begutachtung

12 Zitate (Scopus)

Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	195-205
Seitenumfang	11
Fachzeitschrift	Acta Materialia
Jahrgang	174.2019
Ausgabenummer	August
DOIs	https://doi.org/10.1016/j.actamat.2019.05.044
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 2019

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10.1016/j.actamat.2019.05.044

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TY - JOUR

T1 - Thermal stability of nanolamellar fcc-Ti1-xAlxN grown by chemical vapor deposition

AU - Tkadletz, Michael

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AU - Czettl, Christoph

PY - 2019

Y1 - 2019

U2 - 10.1016/j.actamat.2019.05.044

DO - 10.1016/j.actamat.2019.05.044

M3 - Article

SN - 1359-6454

VL - 174.2019

SP - 195

EP - 205

JO - Acta Materialia

JF - Acta Materialia

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