Thermal stability of nanolamellar fcc-Ti1-xAlxN grown by chemical vapor deposition

Michael Tkadletz; Christina Hofer; Christina Wüstefeld; Nina Schalk; Mykhaylo Motylenko; David Rafaja; Helga Holzschuh; Werner Bürgin; Bernhard  Sartory; Christian Mitterer; Christoph Czettl

doi:10.1016/j.actamat.2019.05.044

Thermal stability of nanolamellar fcc-Ti1-xAlxN grown by chemical vapor deposition

Michael Tkadletz
, Christina Hofer
, Christina Wüstefeld
, Nina Schalk
, Mykhaylo Motylenko
, David Rafaja
, Helga Holzschuh
, Werner Bürgin
, Bernhard Sartory
, Christian Mitterer
, Christoph Czettl

Lehrstuhl für Funktionale Werkstoffe und Werkstoffsysteme (425)

Technische Universität Bergakademie Freiberg
Sucotec AG
Materials Center Leoben Forschungs GmbH
CERATIZIT Austria GmbH
CD-Labor für Moderne beschichtete Schneidwerkzeuge

Publikation: Beitrag in Fachzeitschrift › Artikel › Forschung › Begutachtung

12 Zitate (Scopus)

Originalsprache	Englisch
Seiten (von - bis)	195-205
Seitenumfang	11
Fachzeitschrift	Acta Materialia
Jahrgang	174.2019
Ausgabenummer	August
DOIs	https://doi.org/10.1016/j.actamat.2019.05.044
Publikationsstatus	Veröffentlicht - 2019

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10.1016/j.actamat.2019.05.044

Dieses zitieren

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TY - JOUR

T1 - Thermal stability of nanolamellar fcc-Ti1-xAlxN grown by chemical vapor deposition

AU - Tkadletz, Michael

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PY - 2019

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DO - 10.1016/j.actamat.2019.05.044

M3 - Article

SN - 1359-6454

VL - 174.2019

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EP - 205

JO - Acta Materialia

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