Erholungs- und Rekristallisationsverhalten von technisch reinem Molybdän

Zu den ursprünglichen Hochtemperaturanwendungen von technisch reinem Molybdän sind in den letzten Jahrzehnten zunehmend Anwendungen bei Raumtemperatur hinzugekommen, bei denen Molybdän als Hochleistungswerkstoff zum Einsatz kommt. Ein wichtiges Beispiel sind Sputtertargets, die für die Herstellung von TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)-Flachbildschirmen benötigt werden. Aufgrund der Forderung nach immer größeren zu beschichtenden Glassubstraten haben sich neue Herausforderungen an die Produktion ergeben. Diese signifikanten Formatvergrößerungen sowie die vom Markt geforderten immer höheren Werkstoffreinheiten waren die Ursache, das Erholungs- und Rekristallisationsverhalten von Molybdän erneut zu untersuchen, zumal die in der Literatur auffindbaren Rekristallisationsdiagramme von Molybdän aus den 1960er Jahren stammen. Außerdem kann heute mittels ECCI (Electron Channelling Contrast Imaging) am Rasterelektronenmikroskop genauer zwischen rekristallisierten, erholten oder verformten Körnern unterschieden werden. Interessant ist dabei vor allem die Beurteilung der Substruktur in den Körnern, weil das kubisch-raumzentrierte Molybdän aufgrund seiner hohen Stapelfehlerenergie stark zu Erholungsvorgängen neigt. Diese Arbeit beschreibt die Erstellung eines Rekristallisationsdiagramms für die heutige Qualität von technisch reinem Molybdän und diskutiert es im Vergleich zu einem Rekristallisationsdiagramm von Pink aus dem Jahr 1965.