30 nm X-ray focusing correlates oscillatory stress, texture and structural defect gradients across multilayered Ti N-SiOx thin film

Publikationen: Forschung - BegutachtungArtikel

Autoren

  • Bernhard Sartory
  • S. Braun
  • J. Gluch
  • M. Rosenthal
  • Manfred C. Burghammer
  • S. Niese
  • A. Kubec

Externe Organisationseinheiten

  • Fraunhofer Institute for Material and Beam Technology (IWS)
  • Fraunhofer IKTS
  • ESRF
  • AXO Dresden GmbH
  • Materials Center Leoben Forschungs GmbH

Details

OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)862-873
ZeitschriftActa materialia
Band144
StatusVeröffentlicht - 2018