Investigation of Si and Ge nanocluster systems on the surface SiOx/Si prepared by molecular beam epitaxy

Titel in Übersetzung: Investigation of Si and Ge nanocluster systems on the surface SiOx/Si prepared by molecular beam epitaxy

Yu.N. Kozyrev, M.Yu. Rubezhanska, V. K. Sklyar, M. T. Kartel, N. V. Dmitruk, Christian Teichert, Christian Hofer

Publikation: Beitrag in FachzeitschriftArtikelForschungBegutachtung

Titel in ÜbersetzungInvestigation of Si and Ge nanocluster systems on the surface SiOx/Si prepared by molecular beam epitaxy
OriginalspracheEnglisch
Seiten (von - bis)71-76
FachzeitschriftDopovidi Nacional'noï Akademiï Nauk Ukraïny
PublikationsstatusVeröffentlicht - 2010

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